Zr sputterointi kohde

Zirkonium (Zr) sputterointikohteella on samat ominaisuudet kuin sen raaka-aineella. Sen tiheys on 6,49 g/cc, sulamispiste on 1852 astetta ja höyrynpaine on 10-4 Torr 1987 asteessa.
Zirkonium-sputterointikohdetta käytetään laajalti koristepinnoitteissa, puolijohde- ja optisissa pinnoitteissa.

Zirkoniumkohteen valmistusprosessi
Materiaalin valmistelu - Elektronisuihkusulatus - Kemiallinen analyysi - Taonta - Valssaus - Hehkutus - Metallografinen tarkastus - Koneistus - Mittatarkastus - Puhdistus - Lopputarkastus - Pakkaus

Laajalti käytetty ohutkalvopinnoituksessa, polttokennoissa, koristelussa, puolijohteissa, näytöissä, LEDeissä ja aurinkosähkölaitteissa, toiminnallisissa pinnoitteissa ja muissa optisten tietojen tallennustilateollisuudessa, lasipinnoiteteollisuudessa, kuten autolasi- ja arkkitehtuurilasiteollisuudessa, optisessa viestinnässä ja muilla aloilla.

1. Kilpailukykyiset hinnat.

2. Etumme ovat muita toimittajia parempia.

3. Sama hinta, luotettava laatu.

4. Oikea-aikainen toimitus tarpeidesi mukaan.

5. Ammattitaitoinen palvelu, joka vähentää huomattavasti hankintakustannuksia.

Yritys luottaa monien vuosien ajan kehittyneeseen tekniikkaan, ammattilaitteisiin ja harvinaisen metalliteollisuuden teknikkoryhmään erinomaisilla tuotteilla ja tyydyttävillä palveluilla. Vuosien sitkeiden ponnistelujen jälkeen yhtiön tuotteita on myyty hyvin kotimaassa ja ulkomailla Etelä-Koreassa, Japanissa, Saksassa, Venäjällä ja muissa maissa, ja käyttäjät ovat ottaneet ne hyvin vastaan. Ne on listattu korkealaatuisten toimittajien joukkoon. Uskon, että tuotteemme ja palvelumme tulevat varmasti tunnistamaan ja olemaan tyytyväisiä!