Tantaalikohteetkäytetään pääasiassa erilaisissa ohutkalvopinnoitusprosesseissa, jotka kattavat useita korkean teknologian aloja elektroniikasta ja puolijohteiden valmistuksesta korroosionestopinnoitteisiin ja lääketieteellisiin laitteisiin.
Elektroniikan ja puolijohteiden valmistuksen alalla tantaalikohteista on tullut tärkeä ohutkalvomateriaalien lähde fysikaalisen höyryn laskeutumisen (PVD) tai kemiallisen höyryn laskeutumistekniikan (CVD) avulla. Sitä käytetään pääasiassa puolijohdepinnoitteisiin ja optiseen pinnoitteeseen, kuten ohuiden kalvojen diffuusioesteiden muodostamiseen kuparien yhdistämisten suojaamiseksi, ja tuotteiden, kuten magneettisen tallennusväliaineen, mustesuihkutulostinpäiden ja litteiden paneelien näyttelyiden valmistukseen.
Lisäksi tantaalikohteita käytetään laajasti myös kemiallisten laitteiden, tyhjiöputkien, lääkinnällisten laitteiden ja implanttien valmistuksessa niiden erinomaisen korroosionkestävyyden, korkean sulamispisteen ja biologisen yhteensopivuuden vuoksi. Kemiallisissa laitteissa tantaalikohteet kestävät korkeita lämpötiloja, voimakkaita happoja ja voimakasta alkalista, ja niiden stabiilisuus on erittäin korkea.
Tantalum ruiskutus kohdetuotteen näyttö
