Volframilevy: Yleensä käytetään jauhemetallurgiaa, kuten volframi-jauheen käyttäminen raaka-aineena, kylmän isostaattisen puristamisen ja korkean lämpötilan sintrausina volframin sintrattujen aihioiden saamiseksi ja sitten rullaamisen ja muiden prosessien saamiseksi volframilevyjen valmistamiseksi. Esimerkiksi volframi -jauhetta, jonka puhtaus on 99,95%, käytetään raaka -aineena, kylmä isostaattinen puristus suoritetaan paineessa 200MPa ja sintraus suoritetaan 2300 asteessa H2 -ilmakehässä volframin sintratun aihion saamiseksi. Volframin sintratut aihiot rullataan 4 kertaa 1250-1500 asteessa H2 -ilmakehässä volframilevyjen saamiseksi.
Tantaalilevy: Yleensä tantaalilevyjen tuotantoon voi liittyä sarja monimutkaisia prosesseja, kuten malmin uuttaminen, sulattaminen, taonta ja rullaaminen tantaalimalmin muuntamiseksi tantaalimetallilevyiksi.
Volframilevytuotteiden yksityiskohdat Kuvanäyttö
Tantaalilevytuotteiden yksityiskohdat Kuvanäyttö
