Sovellustantaalikohteetpuolijohdeteollisuudessa
Puolijohdeteollisuudessa tantaalikohteita käytetään pääasiassa integroitujen piirien (ICs) sulkukerrosmateriaalien valmistukseen, erityisesti kupariliitäntätekniikassa. Tantaalin korkea sulamispiste ja alhainen vastus tekevät siitä ihanteellisen materiaalivalinnan. Fysikaalisen höyrypinnoitusprosessin (PVD) avulla tantaaliruiskutuskohteet ruiskutetaan puolijohdesubstraateille ohutkalvodiffuusioesteen muodostamiseksi kupariliitosten suojaamiseksi.
Tantaalikohteiden käyttö optiikassa ja optoelektroniikassa
Tantaalimaaleista voidaan valmistaa ohuita kalvoja, joilla on tietyt optiset ominaisuudet ja joita käytetään laajalti optisissa laitteissa, näytöissä ja antureissa. Erinomaisen korroosionkestävyytensä ja bioyhteensopivuuden ansiosta tantaalikohteilla on tärkeitä sovelluksia optiikassa ja optoelektroniikassa.
Tantaalikohteiden käyttö korroosionestopinnoitteissa ja lääkinnällisissä laitteissa
Erinomaisen korroosionkestävyytensä ansiosta tantaalia käytetään kemiallisten laitteiden ja metallipintojen pinnoittamiseen, jotka ovat alttiina äärimmäisille ympäristöille laitteiden käyttöiän pidentämiseksi. Lisäksi tantaalin bioyhteensopivuus tekee siitä sopivan lääketieteellisiin implantteihin, kuten luulevyihin ja nivelproteeseihin ihmisen hylkimisreaktion vähentämiseksi.