Onko volframikohteille mitään pinnanmuutostekniikoita?

Kyllä, volframikohteille on olemassa useita pintamuokkaustekniikoita. Yksi tekniikka on tallettaa alhainen pintaenergiapinnoite volframikohteen pinnalle. Tämä voidaan saavuttaa menetelmillä, kuten plasman parantunut kemiallinen höyryn laskeuma (PECVD) tai fysikaalinen höyryn laskeuma (PVD).
Pienen energian pinnoitus voi vähentää volframikohteen pintaenergiaa, mikä voi auttaa vähentämään materiaalin tarttumista ja estämään materiaalin kertymistä plasman prosessoinnin aikana. Toinen tekniikka on teksturoida volframikohteen pinta, joka voidaan saavuttaa menetelmillä, kuten laser -ablaatio tai laukauksen piikki.
Tekstiturointi voi muodostaa karkean pinnan, joka parantaa pinnan kostutettavuutta vähentämällä kohdepinnan ja materiaalin välistä kosketusaluetta minimoimalla materiaalin tarttuvuuden. Nämä pintamuokkaustekniikat voivat parantaa volframikohteiden suorituskykyä ja käyttöikäistä plasmamateriaalin käsittelytekniikoissa.